【終了】「第39回エレクトロテストジャパン」に出展致しました
株式会社ユー・エイチ・システムは2025年1月22日（水）～24日（金）に開催されました、「第39回ネプコン ジャパン」内、「第39回エレクトロテスト ジャパン」に出展致しました。
当日はナノフォーカス発生器を搭載した、ミドルレンジ～ハイエンド対応モデルであるXVA-160RAの実機を使用してミニセミナーを開催いたしました。
セミナー中は多くの方に足を止め、また耳を傾けていただき、盛況のうちに展示会を執り行うことができました。 心より御礼申し上げます。
当日お越しいただいたお客様には限られたお時間でのセミナーでありましたため、ご説明しきれなかった点もあった事と存じます。
展示会へお越しいただいたお客様はもちろんの事、ご都合によりお越しいただけなかったお客様も、ご質問・ご要望・案内の不明点などがございましたら是非、弊社担当者までお問い合わせ頂ければ幸いです。
展示会詳細
| 展示会名称 | 「第39回エレクトロテスト ジャパン」 |
| 会期 | 2025年1月22日（水）～24日（金）10：00～17：00 |
| 会場 | 東京ビッグサイト（東ホール） |
| ブース | 東2ホール E16-2 |
展示製品
【NEW！】ナノフォーカス発生器搭載 ミドルレンジ～ハイエンド対応モデル【XVA-160RA】
フォーカスサイズ切り替え（250/800nm）に対応した、ナノフォーカス発生器を搭載したモデルです。
【世界トップクラスの斜めCT技術】
斜めCT技術のパイオニアとして培ってきた高精度メカ機構、高解像度を生み出すアルゴリズムにより”見えない”を”見える”へ
【ユーセントリック機構搭載】
ディテクタ傾斜時、ステージ回転時もサンプルを視野の中央に捉え続け、スムーズな非破壊解析をご提供致します
【特徴】
■ナノフォーカスX線発生器
■フラットパネルディテクタ
■ユーセントリック機能
■高倍率（1,600倍）
■フォーカスサイズ切り替え機能（250/800nm）
■可視光マッピング機能
■フォーカス自動調整機能
超高倍率 ナノオーダー解析を実現したウルトラハイエンドモデル
【XVA-160αII"Z"】
超高倍率(2,000倍)、ナノオーダーのフォーカスサイズ(200nm)を実現した超高分解能モデルです。
【特長】
■ナノフォーカスX線発生器
■フラットパネルディテクタ
■ユーセントリック機能
■高倍率（2,000倍）
■フォーカスサイズ200nm
■高精細トップテーブル
■可視光マッピング機能
■光軸・回転中心自動調整機能
■フォーカス自動調整機能
ステージサイズ□500mm
大型ワーク対応モデル
【EVA-160】
新型プラットフォームと新画像処理を組み合わせ、大型基板にも対応できるモデルです。
【特長】
■マイクロフォーカスX線発生器
■フラットパネルディテクタ
■ユーセントリック機能
■大型ステージ搭載（500mmサイズ対応）
■可視光マッピング機能
■フォーカス自動調整機能